辨識與行動之間有落差
分類標籤只能說明圖形像哪一種缺陷,無法直接回答成因與下一步行動。
基於生成式 AI 的半導體智慧製造助理
串接晶圓缺陷辨識、可解釋視覺化、SOP 脈絡診斷與模擬驗證,並由工程師核准製程調整的人機協作決策流程。
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傳統缺陷分類能辨識異常的晶圓圖形,卻不會自動補上製程脈絡、定位根因或提出安全的處置方式。工程師仍需自行交叉比對視覺證據、設備紀錄與 SOP,再依經驗與反覆嘗試判斷參數該如何調整。
分類標籤只能說明圖形像哪一種缺陷,無法直接回答成因與下一步行動。
晶圓圖、機台訊號、SOP 與工程知識在診斷時彼此分散。
未驗證的參數調整若直接進入產線會帶來風險,也讓資深工程師的判斷難以被系統化傳承。
我們提出的解法
01
以 ResNet-18 辨識八種晶圓缺陷,並用 Grad-CAM 呈現模型判斷時關注的區域。
02
結合模擬機台紀錄與 hybrid retrieval,讓 LLM 依相關 SOP 內容提出根因分析與處置建議。
03
工程師要求測試 Center、Donut 或 Random 的具體參數時,才交由對應的 rule-based simulator 驗證,再評估後續行動。
04
預計的 fab 流程把 WaferCopilot 放在 FDC 與工程師審核之間;APC 只會執行工程師已核准的調整。
系統架構
第一層說明原型實際執行的流程;第二層說明這套決策輔助能力,預計如何放在既有 fab 系統與工程師判斷之間。
原型內部流程
主流程一定會產出可追溯的診斷;Digital Twin 則是條件式分支,只有工程師要求測試參數時才會觸發。
輸入
工程師透過 Streamlit 介面上傳 PNG 或 JPG 格式的晶圓圖。
輸入
WM-811K 形式的晶圓影像
視覺分析
ResNet-18 辨識八種缺陷圖形之一,Grad-CAM 同時呈現模型判斷時關注的區域。
輸出
缺陷類別、信心度與熱力圖
製造脈絡
系統依預測缺陷取得模擬的 lot history、製程路徑、批次良率與 FDC 形式的機台 log。
輸出
生產履歷與機台異常脈絡
有根據的推理
LLM 將視覺證據、製造脈絡與檢索到的 SOP 知識,整合成附有引用的診斷報告。
主要結果
根因、SOP 引用與處置建議
條件式分支
工程師提出參數模擬需求時才進入
條件式驗證
針對 Center、Donut 或 Random,系統可用對應的 rule-based simulator 測試工程師指定的參數。
選用結果
測試參數、預測良率與風險回饋
我的負責範圍
把視覺辨識結果、模擬生產脈絡、RAG 診斷、條件式 digital-twin 工具與 Streamlit 對話介面整合成同一套決策輔助流程。
原型成果
這張 Streamlit 原型畫面以 Edge-Loc 為例:左側 Grad-CAM 呈現模型關注區域,右側診斷面板則把結果整理成可繼續追問、可供工程師判讀的結構化內容。

預計的產線整合方式
這是概念性的部署邊界;目前原型尚未接上真實 FDC 或 APC。
既有系統
提供異常訊號與設備資料。
決策輔助層
負責缺陷分析、脈絡推理與以 SOP 為依據的建議。
決策權
檢視證據並決定是否核准建議。
既有系統
只執行工程師已核准的參數調整。
AI 提出建議 · 工程師做決定 · APC 負責執行
實作與成果
原型使用 WM-811K 開源資料集、ResNet-18 transfer learning 與 Grad-CAM;在團隊的 benchmark 中訓練 20 epochs 後達到 99.2% 準確率,同時保留每次預測的視覺化依據。
系統以合成知識庫、模擬機台紀錄與 hybrid retrieval,把依缺陷對應章節的確定性檢索和語意搜尋結合起來;在展示情境中,log context 能把廣泛的 SOP 檢查清單收斂成較具體的根因假設與行動。
Factory Pattern 會把 Center 交給 CMP simulator、Donut 交給 Etch simulator、Random 交給 environmental simulator;其餘五種缺陷會明確回覆無法模擬,不會編造良率結果。
部署構想是疊加在既有 FDC 與 APC 系統之上,而不是取代它們;流程保留工程師決策權,並提供 cloud 與 local LLM 選項,以回應效能與 fab 資料安全之間的取捨。
限制
WaferCopilot 仍是競賽原型,使用 WM-811K 公開資料、模擬機台紀錄、合成知識庫與 rule-based digital twin surrogate。99.2% 只代表分類模組在該 benchmark 的結果,不等同整體 fab 流程成效。真正導入仍需取得代表性的產線資料、串接真實 FDC/APC、跨機台與製程條件驗證、提升模擬可信度,並完成權限與資安審查。